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Magnetron -Sputter -Beschichtungsproduktionslinie

Kontinuierliche Magnetron -Sputterbeschichtungs -Produktionslinieübersicht

Eine kontinuierliche Magnetron-Sputterbeschichtung ist eine fortschrittliche Dünnfilmabscheidungstechnologie, die ein Magnetfeld verwendet, um die Bewegungs-Flugbahn von Ionenstrahlen in einer Niederdruckumgebung zu kontrollieren, wodurch die materielle Oberfläche eine Sputter-Hadung an der materiellen Oberfläche erreicht wird, wodurch eine gleichmäßige, dichte und gut klingende dünne Filmschicht auf der Substrat bildet. Diese Technologie kann nicht nur die Härte, den Verschleißfestigkeit und die Korrosionsbeständigkeit von Materialien verbessern, sondern auch ihre optische Veränderung verändern.
elektrische und thermische Eigenschaften, um den Bedürfnissen verschiedener Felder zu erfüllen.

Arbeitsprinzip

Das Arbeitsprinzip der kontinuierlichen Magnetron -Sputterbeschichtung besteht darin, ein Magnetfeld auf der Oberfläche der Zielkathode einzuführen und das Magnetfeld zu verwenden, um die geladenen Partikel zu beschränken, um die Plasma -Dichte zu erhöhen, wodurch die Sputterrate erhöht wird. Argonionen werden von der Kathode beschleunigt und bombardieren die Oberfläche des Kathodenziels, sputtern Atome von der Zieloberfläche und legen sie auf der Substratoberfläche ab, um einen dünnen Film zu bilden. Durch Ändern der Ziele verschiedener Materialien und die Steuerung verschiedener Sputterzeiten können dünne Filme verschiedener Materialien und Dicken erhalten werden.

Technische Vorteile

Hohe Abscheidungsrate: Aufgrund der Verwendung von Magnetronelektroden kann ein sehr großer Strombombardierungsstrom erhalten werden, was zu einer hohen Sputter -Ätzrate auf der Zieloberfläche und einer hohen Filmabscheidungsrate auf der Substratoberfläche führt.
● Hohe Leistungseffizienz: Die Kollisionswahrscheinlichkeit zwischen Elektronen mit geringer Energie und Gasatomen ist hoch, was zu einer signifikanten Erhöhung der Gasionisationsrate führt. Entsprechend ist die Impedanz des Entladungsgases (oder des Plasmas) erheblich reduziert. Daher wird im Vergleich zum DC-Diodensputter, selbst wenn der Arbeitsdruck von 1-10 Pa auf 10-2-11pa reduziert wird, die Sputterspannung auch von mehreren tausend Volt auf mehrere hundert Volt reduziert, und die Sputterwirkungsgrad und die Ablagerungsrate steigen um das Größenordnungsordnungen.
Niedrige Energie sputtern: Aufgrund der auf das Ziel angelegten niedrigen Kathodenspannung ist das Plasma durch das Magnetfeld im Raum in der Nähe der Kathode beschränkt, wodurch die Inzidenz von hochsenergisch geladenen Partikeln auf einer Seite des Substrats unterdrückt wird. Daher ist der Schadensgrad, der Substraten wie Halbleitergeräten durch geladene Partikelbombardierung verursacht hat, niedriger als andere Sputtermethoden.
Breite materielle Anwendbarkeit: Alle Metalle, Legierungen und Keramikmaterialien können zu Zielmaterialien verarbeitet werden. Durch Gleichstrom- oder Funkfrequenz-Magnetronsputter, reine Metall- oder Legierungsbeschichtungen mit präzisen und konstanten Verhältnissen sowie Metallreaktionsfilme mit Gasbeteiligung können die Anforderungen verschiedener und hochpräziser Dünnfilme erfüllt werden.

Bewerbungsbereich

Die kontinuierliche Magnetron -Sputterbeschichtungstechnologie wird in der Elektronik- und Informationsindustrie wie integrierte Schaltungen, Informationen zur Informationsspeicherung, Flüssigkristallanzeigen, Laserspeicher, elektronische Steuergeräte usw. häufig eingesetzt. Es kann auch auf dem Gebiet der Glasbeschichtung angewendet werden; Es kann auch auf Branchen wie Verschleißmaterialien, Hochtemperaturkorrosionsbeständigkeit und hochwertige dekorative Produkte angewendet werden.

Produktparameter

Die kontinuierliche Magnetron -Sputterbeschichtungstechnologie spielt aufgrund ihrer hohen Effizienz, Gleichmäßigkeit und Kontrollierbarkeit eine wichtige Rolle in der modernen Industrie. Mit der Weiterentwicklung der Technologie wird diese Technologie weiterhin die Entwicklung neuer Materialien und Produkte vorantreiben und mehr Innovations- und Entwicklungsmöglichkeiten für verschiedene Branchen bringen.

KOTA Technology Limited Company

Über uns

KOTA Technology Limited Company wurde 2012 mit einem registrierten Kapital von 10 Millionen Yuan gegründet, ist ein nationales High-Tech-Unternehmen.
Das Unternehmen hat seinen Hauptsitz in Shanghai, China, und verfügt über eine Reihe von hundertprozentigen und hältigen Tochterunternehmen in Nantong, Yangeng und an anderen Orten in der Provinz Jiangsu und hat in China und Japan F & E-Zentren eingerichtet, um den globalen Markt zu lagern. Gegenwärtig ist das Unternehmen zu einem bekannten, intelligenten, intelligenten Gerätehersteller für intelligente, intelligente Energie intelligent und ein Unternehmen auf dem Gebiet der Lithium-Kupferfoliengeräte im Land. Das von Herrn Matsuda Mitsuya in Nagoya, Japan, geführte technische Team des Unternehmens konzentriert sich auf die Entwicklung und Integration von High-End-Fertigungsgeräten und Automatisierungssystemen im Bereich der elektromechanischen Geräte mit hoher Präzision. Durch die Einführung von japanischen fortschrittlichen Technologie- und Designkonzepten und die Einfuhr origineller Präzisionsteile aus Japan sind die verschiedenen vom Unternehmen produzierten Geräteprodukte zu Branchen -Benchmarks geworden.

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Branchenwissen

1.Was ist eine kontinuierliche Magnetron -Sputterbeschichtung und wie funktioniert es?
Magnetron -Sputter -Beschichtungsproduktionslinie ist eine fortschrittliche und sehr präzise dünne Filmabscheidungstechnik, die zur Verbesserung der Materialeigenschaften verwendet wird. Es erfolgt mit der Einführung eines Magnetfeldes auf der Oberfläche einer Zielkathode, wodurch die Bewegung von Ionen in einer niedrigen Druckumgebung führt. Dies führt zu einem Sputterprozess, bei dem Atome aus dem Ziel ausgeworfen werden, indem sie mit beschleunigten Argonionen bombardiert und anschließend auf einem Substrat abgelagert werden. Diese dünne Filmschicht kann so angepasst werden, dass die erforderliche Dicke und die Materialspezifikationen durch Variieren von Sputterzeiten und die Verwendung verschiedener Zielmaterialien erfüllt werden.
Bei der Hongtian Technology Co., Ltd. verstehen wir, wie wichtig fortschrittliche Fertigungstechnologien wie die kontinuierliche Magnetron -Sputterbeschichtung in der modernen Industrie sind. Als Unternehmen, das sich auf modernste elektromechanische Geräte und Lösungen spezialisiert hat, sind wir bestrebt, qualitativ hochwertige Produkte anzubieten, die die neuesten Technologien nutzen. Zu unseren fortschrittlichen Produktionsfunktionen gehören ein voll ausgestatteter Produktionswerkstatt und ein Lagerhaus, mit dem unsere Produkte die höchsten Qualität und Effizienz der höchsten Standards entsprechen. Unser neuer High-End-Elektro-Coper-Folien-Ausrüstungspark in Yanchg, Provinz Jiangsu, ist Teil unserer ständigen Anstrengungen zur Verbesserung unserer Technologieangebote. Diese Einrichtung wird es uns ermöglichen, fortschrittliche Beschichtungstechnologien, einschließlich Magnetron-Sputtern, weiter in die Entwicklung von Materialien und intelligenten Geräten der nächsten Generation für die Energie- und Elektronikindustrie zu integrieren.
Das Arbeitsprinzip des Magnetronsputters beinhaltet die Kontrolle der Plasma und der Ionendichte in hocheffizienter Weise. Die Ionen beschleunigten aus dem Kathoden, was das Zielmaterial betrifft, wodurch die Zielatome ausgeworfen und dann auf einer Substratoberfläche abgelagert werden. Die Gleichmäßigkeit und Dichte der gebildeten dünnen Filmschicht sind Schlüsselattribute dieses Prozesses, sodass sie ideal für Anwendungen, die konsistente Materialeigenschaften wie Verschleißfestigkeit, Korrosionsbeständigkeit und verbesserte optische oder elektrische Eigenschaften erfordern. Diese Vielseitigkeit ermöglicht die Anwendung von Beschichtungen auf eine breite Palette von Substraten und bietet Anpassungen und Präzision in Branchen wie Elektronik, Automobil und Energie.

2.Was sind die wichtigsten technischen Vorteile des kontinuierlichen Magnetronsputters?
Die Verwendung von Magnetronelektroden erzeugt einen großen Ionen -Bombardierungsstrom, der zu einem beschleunigten Sputterprozess und höheren Abscheidungsraten führt. Dies ist besonders vorteilhaft in großflächigen Produktionsumgebungen, in denen Effizienz und Geschwindigkeit von entscheidender Bedeutung sind.
Das Magnetron -Sputter bietet eine hohe Leistungseffizienz. Die Kollision von Elektronen mit niedriger Energie mit Gasatomen führt zu einer höheren Gasionisationrate, die wiederum die Impedanz des Entladungsplasmas verringert. Diese Verringerung der Impedanz bedeutet, dass der Sputterprozess bei niedrigeren Spannungen und Drücken arbeitet, was zu einer verbesserten Effizienz und einem verringerten Energieverbrauch führt. Bei Hongtian Technology Co., Ltd. legen wir großen Wert auf die Stromversorgungseffizienz, da sie sowohl die Produktionskosten als auch die Nachhaltigkeit direkt beeinflusst. Unsere kontinuierliche Investition in hochmoderne Produktionsanlagen wie unser neuer High-End-Gerätepark in Jiangsu hilft uns, den Energieverbrauch weiter zu optimieren und die Leistung der Geräte, die wir unseren Kunden weltweit liefern, zu verbessern.
Ein weiterer wichtiger Vorteil ist das Sputtern mit geringer Energie, was zu einem kontrollierten Abscheidungsprozess führt. Das Magnetfeld beschränkt das Plasma in der Nähe der Kathode und verringert die Bombardierung von energiereicher Partikeln auf dem Substrat. Diese Eigenschaft ist besonders wichtig, wenn sie mit empfindlichen Materialien wie Halbleitern arbeiten, wo eine energiereiche Partikelexposition Schäden verursachen kann. Als Unternehmen verpflichtet sich, maßgeschneiderte leistungsstarke Lösungen für Branchen für die Elektronik bis hin zu Automobile zu liefern, Hongtian Technology Co., Ltd. integriert Technologien wie Magnetron-Sputtern in unsere Produktangebote, um sicherzustellen, dass wir die höchsten Qualitätsstandards erfüllen, während wir die Risiken minimieren, um Materialien zu erfassen.
Breite materielle Anwendbarkeit ist ein weiterer Grund für die weit verbreitete Einführung von kontinuierlichem Magnetronsputter. Der Prozess ist vielseitig genug, um verschiedene Zielmaterialien, einschließlich Metalle, Legierungen und Keramik, aufzunehmen. Diese Flexibilität ermöglicht die Produktion von Dünnfilmen mit spezifischen Eigenschaften, einschließlich Metallic-Beschichtungen, Legierungsfilmen und Reaktionsfilmen, die für Branchen von entscheidender Bedeutung sind, die hochpräzise Beschichtungen wie Luft- und Raumfahrt, Automobil und Telekommunikation erfordern.

3.Was sind die primären Anwendungen der kontinuierlichen Magnetronsputterbeschichtung?
Die Anwendungen der kontinuierlichen Magnetronsputterbeschichtung sind groß und vielfältig und erstrecken sich über mehrere Branchen. Eine der bekanntesten Felder ist die Elektronik- und Informationsindustrie, in der diese Technologie in der Herstellung von Komponenten wie integrierten Schaltkreisen, Halbleitern und Informationsspeichergeräten ausgiebig eingesetzt wird. In diesen Anwendungen ist die Fähigkeit, dünne Filme mit maßgeschneiderten elektrischen und optischen Eigenschaften herzustellen, von entscheidender Bedeutung. Das Magnetron -Sputter ermöglicht eine präzise Steuerung über die Filmdicke und die Materialzusammensetzung, was es ideal macht, um Beschichtungen mit spezifischer Leitfähigkeit, Transparenz oder reflektierender Eigenschaften zu schaffen.
Bei Hongtian Technology Co., Ltd. erkennen wir die Bedeutung kontinuierlicher Innovationen in Sektoren wie Elektronik. Unsere eigenen Produktionskapazitäten, einschließlich des neuen High-End-Ausrüstungsparks in Jiangsu, werden es uns ermöglichen, in Bereichen wie der Elektronikherstellung weiterhin Innovationen voranzutreiben, in denen Präzision und Materialanpassung von größter Bedeutung sind. Wir sind bestrebt, hochmoderne Lösungen zu entwickeln, die die neuesten Technologien, einschließlich Magnetron-Sputtern, integrieren, um unseren Kunden qualitativ hochwertige Produkte zu bieten, die den Anforderungen moderner Anwendungen entsprechen.
Eine weitere bedeutende Anwendung ist die Glasbeschichtung, insbesondere für architektonische und Automobilglas. Die dünnen Filme, die durch Magnetron -Sputter erzeugt werden, können die Haltbarkeit, Funktionalität und das Aussehen von Glasoberflächen verbessern. Dies umfasst Anti-reflektierende Beschichtungen, UV-Schutz und Wärmedämmschichten. Diese Beschichtungen verbessern nicht nur die ästhetische Attraktivität, sondern tragen auch zur Energieeffizienz bei, indem sie die Wärmeabsorption reduzieren und die Festigkeit des Glass verbessern.
Zusätzlich zu Elektronik- und Glasbeschichtungen wird das Magnetronsputter in den Verschleißmaterialien weit verbreitet. Diese Technologie ermöglicht die Schaffung von harten, langlebigen Beschichtungen, die den Verschleißfestigkeit von Komponenten verbessern, die hoher Reibung ausgesetzt sind, z. B. Automobilteile, Industriemaschinen und Schneidwerkzeuge. Die hohe Adhäsionsstärke der durch Magnetron -Sputtern erzeugten dünnen Filme stellt sicher, dass diese Beschichtungen unter anspruchsvollen Betriebsbedingungen intakt bleiben und damit die Lebensdauer der Komponenten verlängert.